激光干涉測(cè)量是實(shí)現(xiàn)超精密測(cè)控和微納尺度測(cè)量的最有效手段之一。在國(guó)家重大科技專項(xiàng)“極大規(guī)模集成電路制造裝備及成套工藝”(02專項(xiàng))等項(xiàng)目支持下,由李巖等完成的“高測(cè)速多軸高分辨率激光干涉測(cè)量技術(shù)與儀器”項(xiàng)目,突破一系列關(guān)鍵技術(shù)瓶頸,形成了測(cè)量新方法、系統(tǒng)及儀器。
李巖介紹,項(xiàng)目實(shí)現(xiàn)了從干涉儀組件、信號(hào)探測(cè)解調(diào)到多自由度探測(cè)方案設(shè)計(jì)的全鏈條自研開發(fā)的高測(cè)速、多軸大量程、高分辨率激光干涉測(cè)量系統(tǒng)。
截至目前,項(xiàng)目團(tuán)隊(duì)所研發(fā)的光刻機(jī)用雙頻激光干涉儀系統(tǒng),應(yīng)用到我國(guó)自研光刻機(jī)工件臺(tái)樣機(jī)研發(fā)過(guò)程中,累計(jì)應(yīng)用50余臺(tái)套,滿足了光刻機(jī)雙工件臺(tái)樣機(jī)的精密測(cè)量需求,減輕了對(duì)國(guó)外高端干涉儀的依賴,降低了其產(chǎn)品對(duì)我國(guó)出口限制所造成的研發(fā)風(fēng)險(xiǎn)。
李巖說(shuō),比如項(xiàng)目開發(fā)的亞納米分辨率可溯源外差干涉儀,應(yīng)用到激光多維測(cè)量系統(tǒng)研究與開發(fā)的比對(duì)檢定研究中,找出了激光多維測(cè)量系統(tǒng)非線性誤差原因,并用專門的電路加以校正,提高了相關(guān)單位激光多維測(cè)量系統(tǒng)的性能,所提出的可溯源干涉測(cè)量新方法,為摩爾單位采用阿伏伽德羅常數(shù)重新定義作出了貢獻(xiàn)。
“項(xiàng)目的成功,打破了外國(guó)對(duì)我國(guó)高端激光干涉測(cè)量?jī)x器的限制和壟斷,為我國(guó)高端裝備和儀器研發(fā)提供性能穩(wěn)定且不受制于外國(guó)的測(cè)量及溯源能力,豐富了激光干涉測(cè)量理論與技術(shù),具有非常重要的技術(shù)、經(jīng)濟(jì)和社會(huì)效益?!崩顜r說(shuō)。
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