基于可調諧深紫外激光光源的近常壓光發(fā)射電子顯微鏡 攝影劉萬生
本項目利用我國自主研制的可調諧深紫外激光光源作為激發(fā)光源,通過設計和研制多級加速電子光學系統(tǒng)、多級差抽真空系統(tǒng)、近常壓樣品室等關鍵部件,首次實現(xiàn)近常壓氣氛下的深紫外激光光發(fā)射電子顯微鏡成像功能,最高成像壓力1毫巴以上,近常壓光發(fā)射電子顯微鏡的分辨率達到30納米,是一套世界領先并且功能獨特的原位動態(tài)表面成像研究平臺。
光發(fā)射電子顯微鏡能夠對固體表面過程進行實時原位動態(tài)成像,迄今為止光發(fā)射電子顯微成像需要在超高真空和高真空環(huán)境,與實際過程存在巨大的壓力鴻溝。研發(fā)完成后的近常壓光發(fā)射電子顯微鏡可以在接近真實反應條件下進行表面成像研究,在催化、能源、納米科學、生物等領域中有著廣泛的應用。
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