磁控濺射鍍膜機(jī)是一種普適鍍膜機(jī)，用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系?？慑兏鞣N硬質(zhì)膜、金屬膜、合金、化合物、半導(dǎo)體、陶瓷膜、介質(zhì)復(fù)合膜和其他化學(xué)反應(yīng)膜，亦可鍍鐵磁材料。主要用于實(shí)驗(yàn)室制備有機(jī)光電器件的金屬電極及介電層，以及制備用于生長(zhǎng)納米材料的催化劑薄膜層。

磁控濺射鍍膜機(jī)鍍膜原理為磁控濺射，相對(duì)化學(xué)鍍膜方式，其優(yōu)點(diǎn)為膜層附著力更強(qiáng)，焊接后拉力測(cè)試大于10N；均勻性更好；化學(xué)鍍膜在60倍顯微鏡下可看到明顯的針孔、凸起，而磁控濺射沒(méi)有針孔和凸起。

磁控濺射鍍膜方式因生產(chǎn)產(chǎn)品過(guò)程中始終保持真空，因此無(wú)二次污染。下圖為設(shè)備實(shí)物圖。

除了以上優(yōu)點(diǎn)，磁控濺射鍍膜機(jī)單純鍍金產(chǎn)能為4萬(wàn)+根/月，且鍍膜種類(lèi)多，含蓋所有金屬，典型鍍層有Cr、Ti、Ni、Au。也可以進(jìn)行混合鍍膜，比如Ni和Au混合、Ti和Au和Cr混合。

磁控濺射鍍膜機(jī)的優(yōu)勢(shì)明顯，一直以高功率及保偏器件為產(chǎn)品生產(chǎn)研發(fā)導(dǎo)向的光越科技（深圳）有限公司近期引進(jìn)磁控濺射鍍膜機(jī)并且經(jīng)過(guò)研發(fā)人員的不斷驗(yàn)證，完成高精度研磨機(jī)項(xiàng)目，磁控濺射鍍金系列產(chǎn)品也正式投入生產(chǎn)，產(chǎn)品系列如下：

• 應(yīng)用：非制冷紅外探測(cè)器

• 優(yōu)勢(shì)：根據(jù)客戶(hù)定制鍍金處理Si基片，Ge基片；1~6.8μm透過(guò)率小，同時(shí)7.5~14μm的透過(guò)率高；可鍍制金屬化薄膜用于焊接。

斜面、微透鏡、楔形光纖所用的設(shè)備為完全自主研發(fā)，設(shè)備可依據(jù)產(chǎn)品結(jié)構(gòu)不同而進(jìn)行修改?？缮a(chǎn)多種要求的光纖。

使用該設(shè)備加工出的光纖精度高，角度誤差在1°內(nèi)，尺寸誤差控制在1微米內(nèi)，端面質(zhì)量好，在400倍端檢儀下觀察無(wú)可見(jiàn)劃痕、麻點(diǎn)。

行業(yè)的快速發(fā)展，產(chǎn)品迭代的速度也越來(lái)越快，而光越科技也將保持初心，主攻高功率及保偏器件市場(chǎng)，探索市場(chǎng)動(dòng)向，為客戶(hù)提供更符合市場(chǎng)需求的產(chǎn)品。