磁控濺射鍍膜機是一種普適鍍膜機，用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系?？慑兏鞣N硬質(zhì)膜、金屬膜、合金、化合物、半導(dǎo)體、陶瓷膜、介質(zhì)復(fù)合膜和其他化學(xué)反應(yīng)膜，亦可鍍鐵磁材料。主要用于實驗室制備有機光電器件的金屬電極及介電層，以及制備用于生長納米材料的催化劑薄膜層。
磁控濺射鍍膜機鍍膜原理為磁控濺射，相對化學(xué)鍍膜方式，其優(yōu)點為膜層附著力更強，焊接后拉力測試大于10N；均勻性更好；化學(xué)鍍膜在60倍顯微鏡下可看到明顯的針孔、凸起，而磁控濺射沒有針孔和凸起。
磁控濺射鍍膜方式因生產(chǎn)產(chǎn)品過程中始終保持真空，因此無二次污染。下圖為設(shè)備實物圖。
（磁控濺射鍍膜機）
除了以上優(yōu)點，磁控濺射鍍膜機單純鍍金產(chǎn)能為4萬+根/月，且鍍膜種類多，含蓋所有金屬，典型鍍層有Cr、Ti、Ni、Au。也可以進行混合鍍膜，比如Ni和Au混合、Ti和Au和Cr混合。
磁控濺射鍍膜機的優(yōu)勢明顯，一直以高功率及保偏器件為產(chǎn)品生產(chǎn)研發(fā)導(dǎo)向的光越科技（深圳）有限公司近期引進磁控濺射鍍膜機并且經(jīng)過研發(fā)人員的不斷驗證，完成高精度研磨機項目，磁控濺射鍍金系列產(chǎn)品也正式投入生產(chǎn)，產(chǎn)品系列如下：
金屬薄膜質(zhì)量優(yōu) ,耐腐蝕性強；
鍍金薄膜均勻性致密，膜層光滑密實，顯微鏡下觀察無針孔；
高牢固度附著力（優(yōu)于蒸發(fā)機），與基片結(jié)合度高，鍍膜控制精準；
鍍膜有效面積：50x50mm ，金靶純度99.99%。
（空氣入射5°反射率曲線，測試波段中遠紅外2000-25000nm）
（空氣入射5°金反射率測試曲線，測試波段400-2500nm）
（空氣入射45°光譜曲線，測量波段400-2500nm）
金+保護膜（400-20000nm）
（金+保護膜2000-20000nm）
金屬化藍寶石窗口片是使用鉻、鎳、金鍍于藍寶石窗口片邊緣制作而成的新型窗口片，金屬膜邊緣可直接焊接或連接到光學(xué)機械裝配上，達到密封效果。
應(yīng)用：光通訊、激光窗口、紅外成像系統(tǒng)、醫(yī)療設(shè)備等。
優(yōu)勢：符合MIL-STD-883可焊性標準；金屬化材料可定制：Cr、Ti、Ni、Au等。
應(yīng)用：非制冷紅外探測器
優(yōu)勢：根據(jù)客戶定制鍍金處理Si基片，Ge基片；1~6.8μm透過率小，同時7.5~14μm的透過率高；可鍍制金屬化薄膜用于焊接。
斜面、微透鏡、楔形光纖所用的設(shè)備為完全自主研發(fā)，設(shè)備可依據(jù)產(chǎn)品結(jié)構(gòu)不同而進行修改?？缮a(chǎn)多種要求的光纖。
使用該設(shè)備加工出的光纖精度高，角度誤差在1°內(nèi)，尺寸誤差控制在1微米內(nèi)，端面質(zhì)量好，在400倍端檢儀下觀察無可見劃痕、麻點。
透鏡光纖性能對比 | ||
參數(shù) | 光越 | 市面出售產(chǎn)品 |
錐角誤差 | ±2.5° | ±5° |
角度誤差 | ±2.5° | ±5° |
曲率誤差 | ±1um | ±1um |
偏心量 | ±1um | ±1.5um |
鍍層拉力 | ≥15N | ≥10N |
鍍金光纖性能對比 | ||
性能 | 光越 | 市面出售產(chǎn)品 |
鍍層拉力 | ≥15N | ≥10N |
膜層厚度 | 約300nm | 100~1000nm |
單爐裝載量 | 672根/爐 | 350根/爐 |
單爐時間 | 2H/爐 | 5H/爐 |
備注：
錐角誤差主要是指微透鏡光纖的圓錐夾角，對于單模，其精度越高，加工曲率的良率就越高。對于多模光纖，錐度的精度越高其耦合效率一致性更好。
角度誤差主要是指楔形透鏡光纖的夾角，對于其精度越高，加工的曲率的良率就越高。對于多模光纖，錐度的精度越高其耦合效率一致性更好。
曲率精度越高，耦合效率越高。
偏心量越小，透鏡光纖的光軸與光纖包層軸線的夾角越小，從而方便耦合調(diào)試，提高生產(chǎn)效率。
大拉力可以降低產(chǎn)品使用不當導(dǎo)致的壞損率，對使用環(huán)境適應(yīng)性更強。
行業(yè)的快速發(fā)展，產(chǎn)品迭代的速度也越來越快，而光越科技也將保持初心，主攻高功率及保偏器件市場，探索市場動向，為客戶提供更符合市場需求的產(chǎn)品。
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