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技術(shù)前沿

飛秒激光直寫(xiě)技術(shù)刻寫(xiě)弱反射光纖光柵陣列

激光制造網(wǎng) 2023-04-21 我要評(píng)論(0 )   

  全同弱反射光纖光柵陣列  全同弱反射光纖陣列在分布式傳感領(lǐng)域有很重要的運(yùn)用,不僅可以極大提升FBG解調(diào)系統(tǒng)(DAS、DTS、OFDR等)的復(fù)用容量和傳感距離,而且可以...

  全同弱反射光纖光柵陣列

  全同弱反射光纖陣列在分布式傳感領(lǐng)域有很重要的運(yùn)用,不僅可以極大提升FBG解調(diào)系統(tǒng)(DAS、DTS、OFDR等)的復(fù)用容量和傳感距離,而且可以進(jìn)一步空間分辨率和測(cè)量精度。結(jié)合飛秒光柵的高溫特性,可以很好運(yùn)用到油井勘探、石油化工、周界安防、橋梁大壩、航空航天等領(lǐng)域。

  如圖2,刻寫(xiě)的全同弱反射光柵陣列參數(shù)如下:中心波長(zhǎng)為1550nm,光柵長(zhǎng)度為1mm,光柵間距為5mm,光柵數(shù)量為50個(gè),背向反射信號(hào)強(qiáng)度提升35dB,刻寫(xiě)結(jié)果相對(duì)穩(wěn)定。

  全同弱反射光纖光柵OFDR測(cè)試譜

  上海津鐳光電科技有限公司開(kāi)發(fā)的光纖光柵加工設(shè)備,采用飛秒激光直寫(xiě)技術(shù),刻寫(xiě)的光柵陣列具有操作簡(jiǎn)單,無(wú)須掩模板,無(wú)須剝離涂覆層,無(wú)須載氫和二次涂覆等優(yōu)點(diǎn),可以很大程度保持光纖原有的抗拉強(qiáng)度,所刻寫(xiě)的單模光纖光柵最高可耐1000℃高溫,長(zhǎng)期穩(wěn)定性好的特點(diǎn)。


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飛秒激光,直寫(xiě)技術(shù),反射光纖,光柵陣列
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