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技術前沿

飛秒激光直寫技術刻寫弱反射光纖光柵陣列

激光制造網 2023-04-21 我要評論(0 )   

  全同弱反射光纖光柵陣列  全同弱反射光纖陣列在分布式傳感領域有很重要的運用,不僅可以極大提升FBG解調系統(tǒng)(DAS、DTS、OFDR等)的復用容量和傳感距離,而且可以...

  全同弱反射光纖光柵陣列

  全同弱反射光纖陣列在分布式傳感領域有很重要的運用,不僅可以極大提升FBG解調系統(tǒng)(DAS、DTS、OFDR等)的復用容量和傳感距離,而且可以進一步空間分辨率和測量精度。結合飛秒光柵的高溫特性,可以很好運用到油井勘探、石油化工、周界安防、橋梁大壩、航空航天等領域。

  如圖2,刻寫的全同弱反射光柵陣列參數(shù)如下:中心波長為1550nm,光柵長度為1mm,光柵間距為5mm,光柵數(shù)量為50個,背向反射信號強度提升35dB,刻寫結果相對穩(wěn)定。

  全同弱反射光纖光柵OFDR測試譜

  上海津鐳光電科技有限公司開發(fā)的光纖光柵加工設備,采用飛秒激光直寫技術,刻寫的光柵陣列具有操作簡單,無須掩模板,無須剝離涂覆層,無須載氫和二次涂覆等優(yōu)點,可以很大程度保持光纖原有的抗拉強度,所刻寫的單模光纖光柵最高可耐1000℃高溫,長期穩(wěn)定性好的特點。


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飛秒激光,直寫技術,反射光纖,光柵陣列
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