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電子加工新聞

奧地利光刻設(shè)備公司EVG與IMB合作激光剝離技術(shù)

Nick 來(lái)源:激光制造網(wǎng)2018-03-21 我要評(píng)論(0 )   

奧地利的晶圓鍵合和光刻設(shè)備供應(yīng)商EV Group和IBM將簽署關(guān)于激光剝離技術(shù)的許可協(xié)議。EVG計(jì)劃將IBM的混合激光釋放工藝集成到其臨時(shí)粘合和剝離設(shè)備解決方案中,這可以使大...

奧地利的晶圓鍵合和光刻設(shè)備供應(yīng)商EV Group和IBM將簽署關(guān)于激光剝離技術(shù)的許可協(xié)議。EVG計(jì)劃將IBM的混合激光釋放工藝集成到其臨時(shí)粘合和剝離設(shè)備解決方案中,這可以使大批量制造商實(shí)施優(yōu)化的臨時(shí)粘合和剝離工藝流程。

由此產(chǎn)生的先進(jìn)激光剝離解決方案涵蓋紫外線(UV)和紅外(IR)激光剝離(設(shè)計(jì)用于使用玻璃或硅載體)以及檢查鍵合界面的方法和設(shè)計(jì)。IBM提供的技術(shù)有助于EVG實(shí)施針對(duì)臨時(shí)鍵合和剝離的行業(yè)關(guān)鍵要求的設(shè)計(jì),其中包括高產(chǎn)量,高屈服點(diǎn)低晶圓應(yīng)力以及激光設(shè)備,加工和消耗品的低擁有成本。先進(jìn)的EVG解決方案包括幫助芯片免受熱和激光損傷的技術(shù),以及用于器件和載體晶圓的化學(xué)清潔技術(shù)。

圖片.png

EV集團(tuán)的激光剝離模塊采用固態(tài)激光器和光束成形光學(xué)元件,旨在實(shí)現(xiàn)優(yōu)化的無(wú)力剝離。

該設(shè)備專為集成EVG 850DB自動(dòng)剝離系統(tǒng)而設(shè)計(jì),該公司的激光剝離模塊包含固態(tài)激光器和光束成形光學(xué)元件,旨在實(shí)現(xiàn)優(yōu)化的無(wú)力剝離。該公司的激光剝離解決方案具有低溫剝離和高溫加工穩(wěn)定性,適用于各種應(yīng)用。這些包括扇出晶圓級(jí)封裝(FO-WLP)和其他溫度敏感工藝,如存儲(chǔ)器堆疊和集成、管芯分區(qū)、異構(gòu)集成和生物技術(shù)/有機(jī)封裝和器件應(yīng)用以及光子、化合物半導(dǎo)體和功率器件。



編譯:Nick
來(lái)源:Industrial Laser Solution

 

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激光剝離技術(shù)圓晶半導(dǎo)體光刻
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