FTO導(dǎo)電玻璃是一種摻氟的SnO2透明材料，被廣泛用于光伏太陽能電池基材、電致色玻璃、液晶顯示、光催化等領(lǐng)域，也常用于柔性薄膜PET基材上的導(dǎo)電材料。在光伏領(lǐng)域，如鈣鈦礦電池項目中，F(xiàn)TO用于PI層的導(dǎo)電基材，為了使正負(fù)極不發(fā)生接觸，因此需要將FTO導(dǎo)電玻璃采用激光刻蝕或化學(xué)刻蝕成一條條形狀，與金屬電極形成井字形。常見的FTO激光刻蝕圖形主要有刻線或刻面（如2.5*2.5cm的FTO導(dǎo)電玻璃，刻蝕掉兩邊2/3的FTO，保留中間1/3的FTO）。

常見的FTO導(dǎo)電玻璃或薄膜刻蝕方法主要有激光刻蝕以及化學(xué)刻蝕。

左邊為FTO激光刻蝕線槽效果，右邊為FTO激光刻蝕整面效果

激光刻蝕FTO的原理是利用高能量的激光光束照射FTO表面，控制激光焦點在一個小區(qū)域內(nèi)，在瞬間（通常這個時間在幾個納秒時間內(nèi)）的高能量激光作用下，汽化FTO，留下一條汽化后的線槽，在保證線槽的干凈、無毛刺、無殘留的前提條件下，不傷及基材玻璃或PET薄膜，同時能保證線槽兩邊刻斷，無導(dǎo)通性。

而刻面是在刻線的基礎(chǔ)條件下，將要刻蝕的面填充為無數(shù)條線，通過激光刻蝕掃描線條后，形成一整個面的刻蝕，并能夠保證不傷及玻璃，同時還能保證玻璃的透光率，無殘留。

通常情況下，武漢元祿光電導(dǎo)電玻璃激光刻蝕機(jī)的最小線寬可以小于10微米，根據(jù)FTO方阻或者說厚度決定線寬，也跟所使用的激光的波長、脈沖寬度、脈沖頻率、單脈沖能量、刻蝕速度有很大的關(guān)系。一般條件下普通的激光刻蝕機(jī)刻蝕FTO材料的線寬小于20微米，而要做到10微米以下的線寬或者線間距小于10微米，則需要使用超短脈沖激光刻蝕機(jī)，如532nm綠光皮秒激光刻蝕機(jī)或飛秒激光刻蝕機(jī)等。

而刻面如大面積去除FTO鍍層（20*2000mm范圍），可選用激光清邊機(jī)去除P4層材料一樣處理，保證加工效果及加工生產(chǎn)需要的加工效率需求。

化學(xué)刻蝕FTO的原理是利用化學(xué)試劑，腐蝕基材上的FTO或其他導(dǎo)電材料，以鈣鈦礦電池為例，通常采用鹽酸等材料進(jìn)行蝕刻。

化學(xué)蝕刻FTO與激光刻蝕FTO相比，前者成本更加低廉，在大批量生產(chǎn)加工過程中效率更高，前期投入成本更低。但缺點也明顯，保真性差，有耗材，對環(huán)境會造成一定的污染，可控性差，在同階段的刻蝕領(lǐng)域?qū)Ρ龋瘜W(xué)刻蝕相比較于激光刻蝕的精度更低，良品率低，會造成玻璃刻蝕線槽后產(chǎn)生FTO殘留，影響導(dǎo)電性。

相比較而言，激光刻蝕方法想做成什么樣都可以，不受圖形限制，同等級別條件下，可以做到更加精密，線寬更窄，線間距更小，操作簡便，隨時都可以導(dǎo)入圖形或直接繪制圖形加工，不受限制，特別適合于實驗室階段或前期生產(chǎn)階段。而后期大批量生產(chǎn)，從穩(wěn)定性、良品率、耗材、環(huán)保、綜合成本等多種因素考慮，激光刻蝕的優(yōu)勢也更加明顯，這也是為何在觸摸屏、光伏、電致色玻璃等領(lǐng)域已經(jīng)大規(guī)模采用激光刻蝕機(jī)而放棄使用化學(xué)刻蝕的主要原因。