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解決方案

上海光機(jī)所這兩項最新光學(xué)研究取得進(jìn)展

激光制造網(wǎng) 來源:上海光機(jī)所2021-02-26 我要評論(0 )   

近期,中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所薄膜光學(xué)實驗室在優(yōu)化飛秒激光多光子聚合(MPP)增材制造加工精度調(diào)控研究中取得研究進(jìn)展。研究團(tuán)隊利用對光刻膠中引發(fā)劑濃度的...

近期,中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所薄膜光學(xué)實驗室在優(yōu)化飛秒激光多光子聚合(MPP)增材制造加工精度調(diào)控研究中取得研究進(jìn)展。

研究團(tuán)隊利用對光刻膠中引發(fā)劑濃度的調(diào)控實現(xiàn)對聚合產(chǎn)物極限尺寸的有效控制,揭示了多光子聚合光化學(xué)反應(yīng)過程中的擴(kuò)散行為。相關(guān)成果發(fā)表在《光學(xué)材料》(Optical Materials)。

基于飛秒激光多光子聚合增材制造技術(shù)廣泛應(yīng)用于微機(jī)電、微光學(xué)、生物結(jié)構(gòu)等領(lǐng)域的3D打印微納結(jié)構(gòu)制造。目前用于提升加工精度的主流技術(shù)路線是,提升光刻膠中的引發(fā)劑吸收截面以及調(diào)控激光焦斑的可聚焦程度,現(xiàn)階段其制造極限分辨率可達(dá)10nm量級。

課題組通過解析多光子聚合中的光-物理-化學(xué)反應(yīng)過程,認(rèn)為光刻膠中引發(fā)劑濃度與聚合反應(yīng)持續(xù)時間有關(guān),并將最終影響聚合產(chǎn)物的極限尺寸。

研究人員選擇了光引發(fā)劑是六氟銻酸鹽小分子,單體是雙酚A型環(huán)氧樹脂大分子的SU-8光刻膠。

通過烘烤改變光引發(fā)劑的濃度,研究光引發(fā)劑在光刻膠中擴(kuò)散行為對最終聚合極限尺寸的影響規(guī)律。利用長焦距、單次飛秒脈沖曝光方法獲得了扁平化聚合物,精確表征了聚合物尺寸,發(fā)現(xiàn)當(dāng)SU-8膠膜的溶劑含量從~7%下降到4%時,MPP產(chǎn)物的尺寸減小了~40%。

這種聚合尺寸優(yōu)化是源于溶劑含量減少導(dǎo)致的光致陽離子擴(kuò)散能力減弱,從而使聚合反應(yīng)被約束在了更小的尺度范圍內(nèi)。

該項研究成果為優(yōu)化MPP極限加工精度提供了一種新的研究思路,并且證明了在MPP過程中小分子擴(kuò)散是一種值得關(guān)注的本征過程,同時也為光刻膠優(yōu)化選擇和發(fā)展國產(chǎn)光刻膠提供了認(rèn)識基礎(chǔ)。

該項研究獲得了國家自然科學(xué)基金和中科院戰(zhàn)略性先導(dǎo)科技專項的支持。


圖1 (a)增加預(yù)烘烤時間以降低SU-8中的溶劑含量(b)長焦距、單脈沖曝光的扁平化MPP產(chǎn)物的正、側(cè)視圖及其高度信息

圖2 不同溶劑含量/曝光能量密度對應(yīng)的聚合點尺寸統(tǒng)計(a)(b)(c)(d)分別為能量密度為~0.72J/cm2時,溶劑含量分別對7.3%、5.1%、4.3%和3.2%的MPP聚合產(chǎn)物形貌

在高功率光纖激光橫模主動控制方面取得新進(jìn)展

近期,中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所高功率光纖激光技術(shù)實驗室在高功率橫向模式可控激光器研究方面取得進(jìn)展。研究團(tuán)隊通過基于隨機(jī)并行梯度下降算法(SPGD)的主動模式控制的方式,成功實現(xiàn)了1.4 kW量級的LP01和LP11主動模式控制與選擇的光纖激光器系統(tǒng),相關(guān)研究成果發(fā)表于近期《光波技術(shù)雜志》(IEEE Journal of Lightwave Technology)。

基于大模場摻鐿光纖(LMA-YDF)的高功率光纖激光器具有很好的功率轉(zhuǎn)換效率和功率穩(wěn)定性,在許多領(lǐng)域具有重要的研究和應(yīng)用價值。但是,由于大模場光纖的V值大于2.4,多種橫向模式會在光纖中并存。

更為嚴(yán)重的是,由于高功率和強(qiáng)泵浦引起的熱效應(yīng)會引起大模場光纖中的橫向模式不穩(wěn)定(TMI)現(xiàn)象,阻礙激光器功率的進(jìn)一步提升。如果能通過控制的方式實現(xiàn)大模場光纖中的各種橫向模式單獨激發(fā),不僅能對模式不穩(wěn)定效應(yīng)進(jìn)行抑制,而且可以讓一臺激光器受控輸出不同的單橫?;驒M模組合形式,從而滿足于特殊應(yīng)用場景。

在本項工作中,研究人員首先對主放大器的增益光纖進(jìn)行盤繞限模優(yōu)化,增加除LP01和LP11以外的高階模的損耗,實現(xiàn)1.4 kW窄線寬少模激光輸出。然后,以高功率光纖激光器輸出的LP01和LP11模式的強(qiáng)度分布特征為基礎(chǔ),通過探測光斑的中心光強(qiáng)變化作為系統(tǒng)的評價函數(shù),以區(qū)分不同的模式。

利用高速可編程門陣列(FPGA)來實現(xiàn)SPGA算法,產(chǎn)生4路反饋控制電壓信號,并將其加載到模式控制器之上。模式控制器中的壓電陶瓷(PZT)對預(yù)放光纖產(chǎn)生擠壓和應(yīng)力,改變光纖中各種橫向模式的配比。

當(dāng)這些模式注入到主放大器,利用放大器的模式競爭特性,實現(xiàn)不同橫模模式的受控功率放大。當(dāng)SPGD算法收斂到最大值時,激光器輸出LP01模式激光;當(dāng)SPGD算法收斂到最小值時,激光器輸出LP11模式激光。

通過對紅外相機(jī)采集到的光強(qiáng)分布進(jìn)行模式解構(gòu)處理,得出兩種情況下產(chǎn)生的LP01模式的光光效率為84.1%,LP11模式的光光效率為85.8%以上,兩種模式切換的轉(zhuǎn)換效率大于99.5%。

本實驗產(chǎn)生的1.4 kW的橫模可控光纖激光,在光鑷技術(shù)、原子捕獲、激光微加工等領(lǐng)域有重要的應(yīng)用價值。此外,寬帶寬的主動模式控制系統(tǒng)也對以后開展光纖激光器模式不穩(wěn)定的研究提供了有利條件。

本研究得到了國家自然科學(xué)基金等項目的支持。

圖1 模式可控的光纖激光系統(tǒng)裝置圖

圖2 (a)、(c) SPGD算法最小值和最大值收斂后的紅外相機(jī)光場分布;(b)、(d) 模式重構(gòu)出的光場分布;(e) 各種本征模式占比

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