6月7日消息，據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道稱，近日ASML CEO接受媒體采訪時(shí)表示，中國(guó)早已研發(fā)國(guó)產(chǎn)光刻設(shè)備。

在這位CEO看來(lái)，盡管中國(guó)在趕超ASML的技術(shù)方面還有很長(zhǎng)的路要走，但美國(guó)出臺(tái)的打壓措施只會(huì)適得其反，讓中國(guó)“更努力取得成功”。他還稱，與其打壓中國(guó)等競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手，不如將注意力放在創(chuàng)新上。

“中國(guó)已經(jīng)開始研發(fā)一些國(guó)產(chǎn)光刻設(shè)備，盡管中國(guó)在趕超ASML的技術(shù)方面還有很長(zhǎng)的路要走，但你試圖阻止的人會(huì)更加努力地取得成功?！?/p>

在這之前，中國(guó)科學(xué)院成功研發(fā)除了突破性的固態(tài)DUV(深紫外)激光，可發(fā)射193nm的相干光，與目前主流的DUV曝光波長(zhǎng)一致，能將半導(dǎo)體工藝推進(jìn)至3nm。

中國(guó)科學(xué)院的這種技術(shù)最終獲得的激光平均功率為70mW，頻率為6kHz，線寬低于880MHz，半峰全寬(FWHM)小于0.11pm(皮米，千分之一納米)，光譜純度與現(xiàn)有商用準(zhǔn)分子激光系統(tǒng)相當(dāng)。

基于此，甚至可用于3nm的工藝節(jié)點(diǎn)。

這種設(shè)計(jì)可以大幅降低光刻系統(tǒng)的復(fù)雜度、體積，減少對(duì)于稀有氣體的依賴，并大大降低能耗。

相關(guān)技術(shù)已經(jīng)在國(guó)際光電工程學(xué)會(huì)(SPIE)的官網(wǎng)上公布。這種全固態(tài)DUV光源技術(shù)雖然在光譜純度上已經(jīng)和商用標(biāo)準(zhǔn)相差無(wú)幾，但是輸出功率、頻率都還低得多。

對(duì)比ASML的技術(shù)，頻率贏達(dá)到了約2/3，但輸出功率只有0.7％的水平，因此仍然需要繼續(xù)迭代、提升才能落地。