光學(xué)表面的光散射測量方法為目前測量光學(xué)元件表面散射特性的一種主要技術(shù)，主要包括角分辨測量法和總積分測量法。本文對上述兩種測量方法的基本原理和實驗裝置進(jìn)行了系統(tǒng)的闡述，并對兩種方法進(jìn)行了比較分析。最后討論了散射測量方法發(fā)展的趨勢。

　　隨機(jī)粗糙光學(xué)表面的粗糙度是量度光學(xué)元件表面特征的一項重要指標(biāo)，通常為納米量級甚至更低。隨著光學(xué)技術(shù)的飛速發(fā)展及其應(yīng)用領(lǐng)域的不斷擴(kuò)大，光學(xué)元件表面粗糙度及其引起的光散射越來越受到人們的普遍關(guān)注，已經(jīng)成為光學(xué)元件散射特性研究中的基礎(chǔ)和關(guān)鍵問題之一。利用光散射測量光學(xué)粗糙表面是目前發(fā)展較為快速和成功的技術(shù)，人們對這種技術(shù)做了大量的研究工作，使得光散射系統(tǒng)已經(jīng)成為測量光學(xué)元件表面質(zhì)量的主要手段之一。概括起來，光學(xué)表面的散射測量方法主要包括角分辨散射測量法和總積分散射測量法，二者分別以矢量散射理論和標(biāo)量散射理論為理論基礎(chǔ)。

　　1角分辨散射測量法

　　角分辨散射(AngleResolvedScattering，簡稱ARS)測量法是利用散射光的光強(qiáng)及其分布來測量表面粗糙度參數(shù)。一束激光投射到樣品表面上后，其鏡向方向的反射光和散射光分布在一個半球面內(nèi)，半球面內(nèi)各點的光強(qiáng)不同。當(dāng)表面非常光滑時，光強(qiáng)主要分布在鏡向方向。表面越粗糙，鏡向方向的反射光強(qiáng)就越弱，其它點的散射光就越強(qiáng)。用光探測器接收這些不同分布的光強(qiáng)，然后經(jīng)過統(tǒng)計學(xué)和光譜分析或者經(jīng)過光的反射散射計算，就可以得到被測表面的粗糙度值。

　　在ARS測量裝置中，通常以樣品為中心，光電探測器圍繞樣品在入射平面內(nèi)作接近180°或360°的轉(zhuǎn)動，從而測得非入射平面內(nèi)的散射光。樣品一般能轉(zhuǎn)動和平動，以測量斜入射下的散射特性和掃描樣品上各點的散射系數(shù)。在測量中，散射信號很小，通常要采用鎖相放大器。此外，由于測量數(shù)據(jù)很多，所以常常采用計算機(jī)進(jìn)行自動采集和分析數(shù)據(jù)。圖1即為一種典型的角分辨散射測量儀器。

2 總積分散射測量法

　　在總積分散射(TotalIntegratedScattering，簡稱TIS)測量法中，入射光以很小的入射角照射到隨機(jī)粗糙表面上，用積分球收集粗糙表面散射的漫反射光或者包含鏡向反射在內(nèi)的總體反射光。標(biāo)量散射理論在微粗糙度條件下建立起了樣品表面最基本的綜合統(tǒng)計特征參數(shù)-均方根(RootMeanSquare，簡稱RMS)粗糙度σ與其所有反射方向上的總積分散射TIS之間的關(guān)系，從而使TIS法成為一種測量表面均方根粗糙度的便捷方法。

　　σ的表達(dá)式

　　可見，TIS與反映物體表面不規(guī)則起伏程度的RMS粗糙度有關(guān)。實際工作中，對于一般研磨和拋光加工所得到的表面，其微觀起伏通常具有高斯分布特征，所以根據(jù)表面均方根粗糙度就可以了解表面微觀形貌的全部統(tǒng)計特征。因此通過測量樣品表面的總積分散射就可以很方便地得出表面RMS粗糙度，并且可把它作為平面表面光滑程度的重要質(zhì)量指標(biāo)。

　　TIS測量裝置主要有兩種類型。一種裝有Coblentz半球，即內(nèi)壁鍍有鋁、銀等金屬膜的半球，激光光源垂直照射到置于半球后面的樣品上，被粗糙表面散射的光強(qiáng)由Coblentz半球采集；另一種是用積分球，光源以微小的角度照射到樣品表面上，被表面散射的偏離鏡向反射方向的那部分光強(qiáng)由積分球收集。

　　圖2所示的總積分散射測量裝置具有Coblentz球，可分別進(jìn)行背散射或前散射測量，并可分別采用激光器和紫外燈作光源，可測量的波段范圍為193nm—10·6μm。此裝置還可以在真空環(huán)境或以氮?dú)鉃閮艋瘹怏w的條件下對157nm波長進(jìn)行測量。在背散射測量過程中，利用He-Ne激光器作為光源，波長為632·8nm。在2—85°的空間范圍內(nèi)被散射到后半球的光強(qiáng)被Coblentz球所收集，然后被成像到探測元件上。光線照射到樣品上的入射角接近于零度，鏡向反射光束通過Coblentz球的入射光孔反射出去。