閱讀 | 訂閱
閱讀 | 訂閱
深度解讀

Sm:YCOB晶體首次成功應(yīng)用于新概念激光技術(shù)驗(yàn)證

星之球科技 來源:上海硅鹽所2015-12-03 我要評(píng)論(0 )   

最近,上海交通大學(xué)激光研究小組采用中國科學(xué)院上海硅酸鹽研究所非線性光學(xué)晶體材料研究小組制備的Sm:YCOB晶體,開展了新概念激光技術(shù)原理性驗(yàn)證實(shí)驗(yàn),實(shí)現(xiàn)了70%的泵浦...

最近,上海交通大學(xué)激光研究小組采用中國科學(xué)院上海硅酸鹽研究所非線性光學(xué)晶體材料研究小組制備的Sm:YCOB晶體,開展了新概念激光技術(shù)原理性驗(yàn)證實(shí)驗(yàn),實(shí)現(xiàn)了70%的泵浦光耗損和47%的信號(hào)光的內(nèi)轉(zhuǎn)換效率,大幅度超越了當(dāng)前已報(bào)道的啁啾脈沖OPA(Optical parametric amplification, OPA, 光參量放大)的國際最好結(jié)果,達(dá)到了傳統(tǒng)高效率二倍頻和三倍頻的技術(shù)水平,相關(guān)結(jié)果發(fā)表在Optica 2015, 2 (11), 1006-1009上。

激光峰值功率由脈沖帶寬(脈寬)和效率(能量)確定,因此,完美型的強(qiáng)激光放大器以超寬帶和高效率為特征標(biāo)志。迄今為止,強(qiáng)激光的啁啾脈沖放大(Chirped-pulse amplification, CPA)主要依賴于兩類寬帶激光放大器,包括以鈦寶石為代表的能級(jí)型增益介質(zhì)和光參量放大OPA,它們分別具有皮實(shí)高效和超大帶寬的特征,但無法同時(shí)集兩個(gè)優(yōu)點(diǎn)于一身。為挑戰(zhàn)超短超強(qiáng)激光“超越拍瓦(>1015W)”極限,上海交通大學(xué)錢列加教授帶領(lǐng)的激光研究小組近期提出了啁啾脈沖的“準(zhǔn)參量放大(Quasi-parametric amplification,QPA)”新概念技術(shù)。QPA可被看作是OPA的一種變形和升華(唯一的改變?cè)谟趯PA晶體替換成QPA專用晶體),它同時(shí)具備能級(jí)放大器的高效率和OPA的超寬帶特征,將為啁啾脈沖提供理想的放大環(huán)境。新提出的QPA放大方案可阻斷嚴(yán)重影響轉(zhuǎn)換效率的參量逆過程,完全消除信號(hào)光能量的非線性倒流問題。這是一種與能級(jí)放大器高度相似的準(zhǔn)參量過程,具有多方面誘人的突出優(yōu)點(diǎn):(1)同時(shí)具備超大帶寬和接近理論極限的高效率;(2)不發(fā)生倒流逆過程,并對(duì)泵浦激光以及位相失配不敏感。

為驗(yàn)證QPA新概念,必須首先尋找或設(shè)計(jì)出能夠滿足QPA要求的非線性光學(xué)晶體材料,即能夠吸收閑頻光而不影響泵浦光和信號(hào)光透過的晶體。前期,上海硅酸鹽所非線性光學(xué)晶體材料研究小組與上海交通大學(xué)激光研究小組緊密合作,摒棄了傳統(tǒng)的BBO和LBO等非線性光學(xué)晶體,基于基底非線性性能、結(jié)構(gòu)相容、摻雜能級(jí)、偏析等多因素設(shè)計(jì)和實(shí)驗(yàn),最終設(shè)計(jì)確定了適合于532nm 、800nm高透且1572nm吸收可調(diào)的目標(biāo)體系。基底選用具有優(yōu)良非線性光學(xué)性能且結(jié)構(gòu)相容性較大的YCOB晶體,為QPA量身定制了摻雜稀土離子的Sm:YCOB晶體,可兼容最佳的超寬帶位相匹配條件。這一設(shè)計(jì)思路具有較大普適性,適用于不同匹配波長(zhǎng)QPA的晶體材料設(shè)計(jì)問題。相關(guān)結(jié)果發(fā)表在CrystEngComm. 2013,15, 6244-6248上。

  圖1. 生長(zhǎng)制備的不同Sm3+摻雜量的SmxY1-xCOB晶體(左圖)及其對(duì)應(yīng)1572nm附近的近紅外吸收光譜(右圖)

  圖2. 激光實(shí)驗(yàn)裝置原理圖及采用Sm:YCOB與BBO晶體分別實(shí)現(xiàn)QPA和OPA在轉(zhuǎn)換效率、相位失配容許、輸出光波形、壓縮脈寬等方面的對(duì)比

  
                   圖3. QPA過程中信號(hào)光(正方形)和閑頻光(圓形)轉(zhuǎn)換效率測(cè)試結(jié)果

 

轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處。

激光光學(xué)晶體材料新概念激光
免責(zé)聲明

① 凡本網(wǎng)未注明其他出處的作品,版權(quán)均屬于激光制造網(wǎng),未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用。獲本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使 用,并注明"來源:激光制造網(wǎng)”。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關(guān)責(zé)任。
② 凡本網(wǎng)注明其他來源的作品及圖片,均轉(zhuǎn)載自其它媒體,轉(zhuǎn)載目的在于傳遞更多信息,并不代表本媒贊同其觀點(diǎn)和對(duì)其真實(shí)性負(fù)責(zé),版權(quán)歸原作者所有,如有侵權(quán)請(qǐng)聯(lián)系我們刪除。
③ 任何單位或個(gè)人認(rèn)為本網(wǎng)內(nèi)容可能涉嫌侵犯其合法權(quán)益,請(qǐng)及時(shí)向本網(wǎng)提出書面權(quán)利通知,并提供身份證明、權(quán)屬證明、具體鏈接(URL)及詳細(xì)侵權(quán)情況證明。本網(wǎng)在收到上述法律文件后,將會(huì)依法盡快移除相關(guān)涉嫌侵權(quán)的內(nèi)容。

網(wǎng)友點(diǎn)評(píng)
0相關(guān)評(píng)論
精彩導(dǎo)讀