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光學設計軟件

LCD Master中應用于LC鏡頭的新功能

星之球激光 來源:訊技科技2011-08-23 我要評論(0 )   

1.概述和背景 Shintech開發(fā)了新功能,尤其對LC透鏡研究和設計很有幫助。 【LC透鏡需要thicker cell gap】 LC透鏡有較高的延遲值,超過幾千納米,間隙厚度需要做得更厚來...

1.概述和背景

 

Shintech開發(fā)了新功能,尤其對LC透鏡研究和設計很有幫助。

 

【LC透鏡需要thicker cell gap】

 

LC透鏡有較高的延遲值,超過幾千納米,間隙厚度需要做得更厚來得到更高的阻滯值。

 

【LC材料與電場】

 

LC材料響應電場,更厚的間隙帶可以產生更高的應用電壓,這樣,LC透鏡就要求高電勢差。

 

 

LC透鏡需要高電勢差 

 

2.高阻膜和頻率

 

有兩種模擬方法,一個是dynamics,另一種是statics,statics通常用來獲得V-T曲線圖,這里我們需要考慮statics模擬方式中電壓的意義。電壓頻率應該為0[HZ],換句話說,statics是在DC假設的條件下計算出來的。

 

我們將AC假設和高阻材料加入到新靜力學中。LC透鏡研究人員在此條件下成功地減少了應用電壓,此為一個很大的設計技術革新。

 

Shintech LCD Master只能用AC假設的static和高阻材料來模擬LC透鏡

 

3.舉例

 

下圖綠色部分表示高阻層,紅色線表示電極。

 

 

下圖表示⊿nd曲線圖,延遲值取決于應用電壓波形頻率。

 

 

4.LCD Master/3D statics與AC假設

 

AC假設下的Statics和高阻函數(shù)不僅能在LCD Master/2D中被執(zhí)行,在LCD Master/3D中也可被執(zhí)行,然而,三維中需要很長的時間來得到3D結果,對于3D仿真,您需要高性能計算機才能運行得出結果。 

 

5.LCD Master/eWave

 

 

LCD Master 通常使用2X2或者4X4光學運算法則,即用一階麥克斯韋方程解算器來進行求解,然而,為了獲得更多精確的結果,也用到二階或三階麥克斯韋方程解算器,即LCD Master/eWave,開始被應用。其特性如下:

 

1) LC導向數(shù)據(jù),將自動輸出到eWave

 

2)對于LC透鏡研究者,在遠場進行參數(shù)評估是很重要的是可能的。

 

3) eWave使用特殊的運算法則來減少計算時間。

 

 

6.Micro測量儀

 

OPTIPRO/Micro可以測量10um大小的高阻膜,LCD Master可以輸出高阻滯值,這在第三章講過,LC透鏡研究人員可以很容易地比較測量和仿真結果。

 

 

7.結論

 

AC假設的Statics,高阻材料和eWave,這種組合加快并保證這種高阻膜LC透鏡高科技術的發(fā)展。LC透鏡研究人員同樣也可以通過OPTIPRO/Micro產生的每一個彌散點大小確認實際面板阻滯空間分布。

 

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