我國首次實現(xiàn)

　　新型深紫外激光輸出

　　在“十二五”863計劃新材料領域“先進激光材料及全固態(tài)激光技術”主題項目支持下，中國科學院理化技術研究所承擔的“深紫外激光器及人工晶體關鍵技術”課題取得重大進展，于近期通過了課題技術驗收。

　　深紫外激光由于波長短、光子能量高，因而在高分辨率成像、光譜應用、微細加工等諸多領域具有重要的應用價值，獲得實用化、精密化的深紫外光源一直是科學家們不斷追求的目標。我國在深紫外晶體材料和激光技術領域具有國際領先優(yōu)勢，但隨著應用的發(fā)展，急需更高性能的深紫外全固態(tài)激光源（DUV-DPL），如更高功率、更窄線寬。

　　該課題在國際上首次實現(xiàn)高功率、窄線寬177.3nm深紫外激光輸出，解決了大尺寸KBBF族深紫外晶體生長、優(yōu)質KBBF-PCT器件研制、高效深紫外倍頻技術、窄線寬深紫外激光產生技術等關鍵問題，KBBF晶體厚度突破4mm。

　　該課題完善、鞏固了我國擁有的深紫外自主知識產權體系，填補了直接倍頻產生高功率、窄線寬深紫外激光的空白，擴展了深紫外激光可實用化、精密化應用。