圣地亞哥,2018年8月27日電 /美通社/ - 用于半導(dǎo)體制造的準(zhǔn)分子激光器的領(lǐng)先制造商Cymer今天宣布首次客戶安裝其XLR 860ix光源,預(yù)計(jì)將用于芯片生產(chǎn)在高級(jí)邏輯和內(nèi)存節(jié)點(diǎn)。
XLR 860ix是一款基于氬氟化物準(zhǔn)分子激光器的深紫外(DUV)光源。第一個(gè)客戶安裝在本月完成,XLR 860ix與ASML的最新光刻系統(tǒng)TWINSCAN NXT:2000i配對(duì),該光源系統(tǒng)今年早些時(shí)候獲得了資格。
“XLR 860ix通過(guò)改進(jìn)高速控制和重新設(shè)計(jì)的板載帶寬測(cè)量,與前一代產(chǎn)品相比,將帶寬變化減少了兩倍。這是一項(xiàng)重要成就,因?yàn)檫@些變化會(huì)導(dǎo)致關(guān)鍵尺寸誤差(CD)均勻性反過(guò)來(lái)影響圖像質(zhì)量和最終制造產(chǎn)量。我們的客戶使用XLR 860ix的早期版本驗(yàn)證了光譜穩(wěn)定性的改善,這使我們相信這種光源將會(huì)有助于提高用于生產(chǎn)先進(jìn)集成電路的CD均勻性,“Cymer產(chǎn)品營(yíng)銷副總裁Patrick O'Keeffe說(shuō)。
在XLR860ix全面發(fā)布之前,Cymer通過(guò)升級(jí)現(xiàn)有光源,為早期訪問(wèn)計(jì)劃的客戶提供了關(guān)鍵技術(shù)。已經(jīng)完成了四次這樣的升級(jí),計(jì)劃在今年年底之前升級(jí)另外七個(gè)來(lái)源。共有七位客戶參與了早期訪問(wèn)計(jì)劃。為了滿足客戶的強(qiáng)烈需求,Cymer已迅速將其生產(chǎn)能力轉(zhuǎn)移到XLR 860ix型號(hào),用于所有未來(lái)的ArF沉浸式發(fā)貨。
“除了早期訪問(wèn)計(jì)劃,我們還提供了XLR 860ix的一項(xiàng)關(guān)鍵新技術(shù),作為以前光源模型的升級(jí)。這種升級(jí)延長(zhǎng)了光學(xué)器件和腔室的使用壽命,增加了時(shí)間間隔。維修間隔為33%,從而使我們的客戶能夠更好地利用他們的光刻系統(tǒng),每年為每個(gè)工具提供數(shù)千個(gè)額外的晶圓。我們的客戶積極利用這一升級(jí),在過(guò)去一年內(nèi)完成了400多次升級(jí)。大多數(shù)升級(jí)后的系統(tǒng)超出了目標(biāo)服務(wù)間隔,“O'Keeffe說(shuō)。
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