中科院上海光學緊密機器研究所周常河研究員課題構成功研制出多路激光直寫裝配。該裝配采納405nm的藍光激光光源，僧康0.9數值孔徑的透鏡，和主動聚焦體系，完成了25路高精度并行激光直寫，刻寫光斑的線寬小于600nm。比擬于傳統激光直寫體系，該裝配在刻寫速率和服從方面有了很大的進步，幾十倍地收縮了激光直寫時間，可以疾速建造大尺寸、高精度衍射光學元件。

　　激光束直寫技能是一種無需掩膜的光刻技能，根本事情道理是由計較機節(jié)制高精度激光束或樣品掃描，在光刻膠上或光敏質料上刻寫出掩膜圖形。傳統的激光直寫裝配因為受單路激光刻寫的限定，服從低，時間長，只能利用于中、小尺寸光學器件的出產和制備。該裝配的樂成研制，有大概為中國的半導體系體例造及大尺寸微納光學加工范疇供給一種高機能、低本錢的技能手段，同時，也將鞭策我國在納米光刻，微納光學制作等范疇的進步，對付研制我國大迷信工程、裝配和地理、航天、航空、印刷等行業(yè)所必要的大尺寸光學元件，起到踴躍的鞭策感化。