第二屆“環(huán)太激光損傷——高功率激光光學材料”專題研討會近期在上海嘉定如期舉行。

　　第二屆“環(huán)太激光損傷——高功率激光光學材料”專題研討會由中科院上海光機所和SPIE共同主辦，中國光學學會和中國科學院協(xié)辦。主席由中科院上海光機所邵建達研究員，日本大阪大學Takahisa Jitsuno 教授和美國新墨西哥大學Wolfgang Rudolph教授共同擔任。

　　來自亞洲、北美、歐洲等地區(qū)11個國家的120余位專家出席了本屆會議，其中30余位專家來自境外。本屆會議共接受論文87篇，包括61篇口頭報告和26篇張貼報告。與第一屆會議的100余位參會人數和來自8個國家的20余位境外代表相比，本次會議均略有增長。會議圍繞紫外-紅外高功率激光損傷，激光切割和加工，缺陷、污染、拋光和表面損傷，表征技術和測量方法，高損傷閾值薄膜，非線性激光晶體，激光陶瓷，光學玻璃與光纖等8個議題展開。

　　激光切割和加工最新進展

　　隨著超快激光技術的發(fā)展，“冷”激光加工技術得到了越來越多的關注，“冷”激光加工技術對材料的去除是基于激光與物質的非線性作用。與傳統(tǒng)的“熱”激光加工技術相比，“冷”激光加工技術具有很多優(yōu)勢，包括“零”熱效應、超精細的加工特征，更好的邊緣質量等。激光切割和加工在本屆會議中有口頭報告9篇。

　　激光與物質相互作用包括一系列復雜的現象和過程：吸收和能量傳輸；能量重新分布至晶格和熱弛豫；形成等離子體，產生材料噴射等。對于微加工之類的強激光應用而言，損傷閾值的計量是至關重要的。需要計量的內容包括：1) 產生材料改

　　性的激光輻照水平；2) 沉積在材料中的激光能量；3) 自由電子等離子體的演化和晶格響應；4) 最終材料特性的評價，包括折射率變化、化學或結構變化等。法國艾克斯-馬賽大學Olivier Uteza博士在其邀請報告中介紹的測試平臺，利用LP3實驗室的ASUR激光設施，能夠研究飛秒以及短至幾個光學周期的脈寬下的激光與物質相互作用。作者利用該平臺開展研究，通過改變激光脈沖的脈寬、能流密度等參數，來評價飛秒區(qū)域的激光與物質相互作用，有助于洞察離化機制。

　　上海光機所的程亞研究員報道了其利用飛秒激光直寫技術在多孔玻璃中制作納米微結構的研究結果。他們制作的納米通道的橫向寬度低至~40 nm，約為寫入激光束波長(~800 nm)的二十分之一。該分辨率遠遠超越了衍射極限，作者認為該結果歸功于飛秒激光與玻璃材料相互作用的兩個基本機制：1) 存在一個開始內部消融的閾值強度；2) 類納米光柵結構的形成。作者認為該技術不僅提供了一種在玻璃內部獲得亞50 nm線寬的可靠方法，同時為多個研究領域的三維納流體應用開辟了新的機遇。　Domas Paipulas等報道了利用飛秒高斯和貝塞爾-高斯激光束對熔石英進行改性的結果。他們的研究結果表明：對于像體布拉格光柵這樣的器件而言，貝塞爾-高斯激光束更適合于這類器件的制作。作者利用貝塞爾-高斯激光束成功在熔石英體材料中制作了絕對衍射效率達~90%的體光柵，而利用高斯光束制作的光柵衍射效率僅達到60%。Jian Chen等介紹了激光切割超薄玻璃基板方面的最新進展，特別強調了利用高功率激光的非線性效應實現超薄玻璃切割的進展，作者認為該技術在超薄玻璃基板的批量生產方面具有很大的應用潛力。

　　激光加工和激光損傷的物理基礎都是激光與材料的相互作用問題。從本議題的報告中可以明顯看出，正因為人們對飛秒激光與材料相互作用機制有了深入的了解，才使飛秒加工技術出現突破性的進展。激光加工的研究成果可以被激光對材料損傷的研究工作所借鑒。同樣，激光對材料損傷的研究成果也可以有效地指導激光加工技術的改進。

　　缺陷、污染、拋光和表面損傷

　　在該議題部分，本屆會議收到7篇口頭報告，討論的內容包括先進加工技術，基于反應離子束刻蝕和基于氫氟酸水溶液刻蝕的表面處理技術，借助散射光對表面、薄膜和體材料中損傷相關的缺陷進行表征的技術，以及355 nm激光脈沖能量和脈沖數對熔石英在真空環(huán)境中損傷閾值的影響等。

　　得益于確定性拋光技術，非球面加工在近年來取得了較大的進展。然而，對于大口徑和高精度的非球面表面加工，仍然存在很多問題，例如中頻誤差問題。中頻誤差會引起小角散射、能量損失、像素串擾等問題，因而在拋光中必須對中頻誤差進行控制。Xuqing Nie等從理論和實驗上對中頻誤差問題進行了研究，他們分析了在中頻誤差方面的加工能力不足，并介紹了一種包括磁流變加工和離子束加工的拋光工藝，用于解決中頻誤差問題。

　　熔石英加工過程中引起的裂紋、劃痕和雜質污染等會在激光輻照下誘導元件損傷，從而降低熔石英元件的抗激光損傷閾值。Xiaolong Jiang等介紹了他們利用化學瀝濾對熔石英元件表面雜質污染進行去除的效果，以及對傳統(tǒng)的氫氟酸水溶液刻蝕工藝進行優(yōu)化，有效阻止反應物的再沉積。測試結果表明：這兩種表面處理方法都在一定程度上提升了石英元件的抗激光損傷閾值。Laixi Sun等報道了利用反應離子束刻蝕技術對熔石英表面進行處理的結果。認為通過反應離子束刻蝕技術，能夠去除石英元件表面的雜質污染和劃痕等結構特征，從而提升了石英元件的抗激光損傷閾值。

　　微小缺陷引起的散射會引起光學元件的性能下降，包括增加損耗、影響成像系統(tǒng)精度等。另一方面，借助光散射，能夠對表面以及材料的雜質進行非接觸式無損探測分析。Sven Schroder等介紹了弗勞恩霍夫應用光學精密機械研究所研發(fā)的ALBATROSS系統(tǒng)，能夠對紫外至紅外光譜波段的光散射進行測試；并利用光散射測量裝置對激光誘導損傷相關的雜質進行分析，包括界面粗糙度、表面缺陷、體材料的不均勻性和亞表面損傷等。Xiaoyan Zhou等研究了石英基片在真空環(huán)境下，經過不同能量、不同脈沖數的355 nm激光輻照后的性能變化。認為石英基片在經過紫外預輻照后，表現出強的吸收帶或熒光帶，這歸因于非橋氧空穴中心、缺氧缺陷，以及其他一些激光誘導損傷缺陷。

　　用于高功率激光系統(tǒng)的光學元件必須經過光學加工和表面處理這兩個基本過程。光學加工帶來的表面和亞表面缺陷以及表面處理和輸運等過程帶來的表面污染，很大程度上降低了光學元件的損傷閾值和光學質量。此外，對于表面鍍膜的光學元件，缺陷和污染對薄膜性能的影響也是需要關注和解決的問題。本議題中的報告，無論是加工技術的改進，還是診斷技術的提高，基本都是圍繞著提高光學表面質量，減少表面和亞表面缺陷而展開的。盡管相關的工作對提高光學表面質量起到了很大的作用，但是從高功率激光系統(tǒng)的需求出發(fā)，這方面的研究工作還遠遠不夠，特別是光學元件表面和亞表面缺陷對薄膜抗激光性能和其他性能的影響問題還在起步階段；此外，包裝、傳輸及應用過程中的污染導致光學元件性能下降等問題還缺乏系統(tǒng)的研究和足夠的重視。期待著相關方面的研究工作有更大的進展。