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太陽能工藝

硅材料的光纖激光器切割

激光制造網(wǎng)通訊員 來源:廣東星之球2011-12-19 我要評(píng)論(0 )   

總結(jié) 硅材料 廣泛應(yīng)用 于很多工業(yè)領(lǐng)域中,特別是太陽能電池和半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè),在珠寶首飾和娛樂產(chǎn)品中的應(yīng)用也在不斷增加。大部分應(yīng)用使用的源材料是以晶片硅的形式存在。通...

總結(jié)

硅材料廣泛應(yīng)用于很多工業(yè)領(lǐng)域中,特別是太陽能電池和半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè),在珠寶首飾和娛樂產(chǎn)品中的應(yīng)用也在不斷增加。大部分應(yīng)用使用的源材料是以晶片硅的形式存在。通常晶片的厚度為0.2-1.5mm (0.008”–0.06”) ,直徑為100-300mm (4”-12”) 。本文專門集中說明了切割模式晶圓,單晶和多晶硅(200µm)的方法。通過考察脈沖和連續(xù)激光器,發(fā)現(xiàn)光纖激光器相對(duì)其他現(xiàn)存的硅切割技術(shù)具有很強(qiáng)的競爭力。

引言

傳統(tǒng)硅晶片的切割方法主要是金剛石鋸,偶爾也使用劃線折斷工藝,這種方法只能切割直線,并且邊緣具有較嚴(yán)重的裂痕,或者使用倍頻的鐵合金激光器,這種方法和微噴工藝,一樣都操作昂貴,速度緩慢。最近SPI開發(fā)了一種光纖激光器切割工藝,該工藝能在較快的切割速度下,仍然具有極好的切割質(zhì)量。

 

 

圖1 太陽能電池板

結(jié)果

使用200W連續(xù)光纖激光器對(duì)200μm(0.008)厚度的多晶硅進(jìn)行切割時(shí),切割速度可達(dá)10m/min,并且可得到高度平滑的切割邊緣,沒有任何裂縫的痕跡??梢宰龅胶蛡?cè)面平行、無任何邊緣碎裂痕跡的40微米的切口寬度。甚至在1.2mm厚度(0.005),切割速度也可超過1m/min。這個(gè)比現(xiàn)存的所有其他硅切割技術(shù)都要快。

下表展現(xiàn)了光纖激光器切割硅的能力。

厚度mm

材料

功率 W

速度 m/min

0.25

單晶硅基底

200

>6

0.65

單晶硅基底

200

>3

0.85

單晶硅基底

200

3

1.2

單晶硅基底

200

1

1.4

單晶硅基底

200

0.7

0.25

多晶硅帶

50

2.5

0.84

化晶圓#p#分頁標(biāo)題#e#

100

5

表1

硅帶切割

該切割方法可提供出色的切割邊緣質(zhì)量,下圖為50W 連續(xù)SPI光纖激光器切割一小塊硅。

 

圖1 50W 連續(xù)SPI光纖激光器以2.5m/min的速度切割250μm厚的硅帶。

化晶圓切割

該激光器在切割化晶圓時(shí),都具備超常的邊緣質(zhì)量,無任何裂痕或碎痕的跡象。

這種新型切割工藝,在切割任何形狀時(shí)都能擁有像切割直線那樣的切割質(zhì)量(這個(gè)目前是金剛石鋸切割法的缺陷)。

 

圖2  200W 連續(xù)SPI光纖激光器以3.5m/min的速度切割0.8mm(0.03)化晶圓

200µm 硅片切割

SPI脈沖激光器也可以用于切割或?qū)柽M(jìn)行劃線。當(dāng)激光運(yùn)行功率為20W,重復(fù)率為65 kHz,脈沖長度 75ns時(shí),可達(dá)到200mm/min的切割速度。這個(gè)過程的特征是會(huì)在切割邊緣由再次固化反應(yīng)形成的小節(jié)。

使用脈沖激光器,可以很容易地在硅材料上切割槽或凹槽。目前SPI正在和一些系統(tǒng)集成商合作,從而將這些切割工藝商業(yè)化。

 

圖3:樣品切割:20W,100μm厚硅片,來回切割,等效切割速度250mm/min,25kHz重復(fù)率,200ns脈沖寬度。

結(jié)論

SPI激光器在美國和英國都有應(yīng)用實(shí)驗(yàn)室。這些機(jī)構(gòu)為SPI技術(shù)的潛在使用客戶提供樣品和使用說明書的驗(yàn)證,且該服務(wù)不收取任何費(fèi)用。如客戶有需要,我們會(huì)將樣品寄給他們,這樣客戶就可以充分利用SPI的“在購買之前使用”的優(yōu)勢,盡可能獲得一臺(tái)最適合自己的激光器,并擁有30天的試用期。

 

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