近日，韓國先進科學(xué)技術(shù)研究院（KAIST）化學(xué)和生物分子工程學(xué)系的一個研究團隊在Shin-Hyun Kim教授的領(lǐng)導(dǎo)下開發(fā)出了一種新型光刻技術(shù)，該技術(shù)主要通過氧擴散來控制形成功能性形狀的微型圖案。

光刻技術(shù)也被稱作光學(xué)光刻或UV光刻，其一些基本原理與攝像也有相似之處，主要都是通過投影曝光形成圖案。它其實是一個標準方法，即通過在光阻材料層的曝光將微型圖案轉(zhuǎn)印到襯底上，如今這種方法已經(jīng)在半導(dǎo)體工業(yè)中得到廣泛使用。

不過在此之前，這一技術(shù)只能用于二維的設(shè)計，這是由于曝光區(qū)域和頂部區(qū)域之間的邊界是與光源的方向平行的。

然而，通過由Kim教授和他的團隊在對光刻技術(shù)的研究中發(fā)現(xiàn)，他們發(fā)現(xiàn)，暴露在UV光下的區(qū)域氧氣濃度會降低，并導(dǎo)致氧氣的擴散。通過控制氧氣的擴散速度和方向可以操縱其整體成型過程，包括聚合物的形狀和大小。

根據(jù)這一研究結(jié)果，研究團隊發(fā)明了一種基于光刻原理的新技術(shù)，它能夠利用氧的存在制造出微型三維結(jié)構(gòu)。該技術(shù)主要利用氧氣濃度的差異引起氧氣到uv光照射區(qū)域內(nèi)的擴散。最終，通過在這一過程中抑制劑的使用使得能夠制造出復(fù)雜的微型3D結(jié)構(gòu)。

由Kim教授和他的團隊發(fā)明的這項新技術(shù)可以用于改進3D聚合物的制造工藝，以前很多人認為它很難用于商業(yè)用途。

 “雖然3D打印被認為是一種創(chuàng)新型的制造工藝，但它不能被用于大規(guī)模制造微觀產(chǎn)品。”金教授說。“這種新型光刻技術(shù)將會在學(xué)術(shù)界和工業(yè)級產(chǎn)生廣泛的影響，因為現(xiàn)有的，傳統(tǒng)的光刻設(shè)備可以用于發(fā)展更為復(fù)雜的微型結(jié)構(gòu)。”