4月17日，科創(chuàng)板企業(yè)舉行2019年度網(wǎng)上業(yè)績說明會。公司董事長尹志堯介紹，國內(nèi)集成電路制造產(chǎn)業(yè)大發(fā)展，大量資金不斷投入，集成電路設備需求迅速提高。設備國產(chǎn)化條件逐漸成熟，國產(chǎn)化趨勢明顯，這些因素推動公司業(yè)績增長。中微公司計劃不斷開發(fā)新產(chǎn)品，提高市場占有率。公司將在適當時機通過投資、并購等外延式途徑，擴大產(chǎn)品和市場覆蓋，未來十年力爭發(fā)展成為國際一流的半導體設備公司。

業(yè)績快速增長

2019年中微公司實現(xiàn)營業(yè)總收入19.47億元，同比增長18.77%；實現(xiàn)歸屬于上市公司股東的凈利潤1.89億元，同比增長107.51%。

“堅持以市場和客戶需求為導向，積極應對復雜形勢，在刻蝕設備和MO的研發(fā)、市場布局等諸多方面取得了較大突破，產(chǎn)品不斷獲得更多客戶認可，為公司持續(xù)健康發(fā)展提供了有力支撐。”尹志堯說。

國內(nèi)半導體設備需求增長等因素推動中微公司業(yè)績增長。

首先，公司主打產(chǎn)品等離子體刻蝕機市場迅速增長。尹志堯表示，公司的等離子體刻蝕設備系列產(chǎn)品不斷完善。公司具有CCP三代的電容性等離子體刻蝕機，包括雙臺反應器機型和單臺反應器機型，開發(fā)了ICP電感性等離子體刻蝕單臺反應器機型，正在開發(fā)雙臺機。設備產(chǎn)品不斷進入市場，刻蝕機銷售快速成長。

其次，隨著照明產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，MOCVD設備市場需求在2017年-2018年達到歷史新高。尹志堯介紹，公司開發(fā)的MOCVD設備逐步成為氮化鎵基藍光LED器件制造的首選設備，連續(xù)獲得大批量訂單。

半導體設備國產(chǎn)化率提高是公司發(fā)展的重要推動力。尹志堯指出，國內(nèi)集成電路制造產(chǎn)業(yè)大發(fā)展，大量資金不斷投入，對集成電路前端設備的需求量迅速提高。2019年國內(nèi)集成電路前端市場達到全球的20%左右。

“設備國產(chǎn)化條件逐漸成熟，設備國產(chǎn)化趨勢日益明顯?！币緢虮硎?。

覆蓋不同市場

“半導體設備產(chǎn)業(yè)波動大，必須未雨綢繆，擴展設備種類，覆蓋不同市場。”尹志堯表示，今后十年中微公司將采取三個維度的發(fā)展策略。一是從目前的等離子體刻蝕設備，擴展到化學薄膜設備以及和刻蝕及薄膜有關(guān)的測試等關(guān)鍵設備。二是擴展在泛半導體設備領(lǐng)域的產(chǎn)品，從用于制造MEMS和CIS影像感測器的刻蝕設備、制造藍光LED的MOCVD設備，擴展到更多的微觀器件加工設備，及制造深紫外LED、Mini-LED、Micro-LED等微觀器件的設備產(chǎn)品。三是探索核心技術(shù)在環(huán)境保護、工業(yè)互聯(lián)網(wǎng)等領(lǐng)域及其他新的應用。

尹志堯表示，公司將在適當時機，通過投資、并購等外延式生長途徑，擴大產(chǎn)品和市場覆蓋，未來十年力爭發(fā)展成為規(guī)模和市場占有率方面達到國際一流的半導體設備公司。

新產(chǎn)品開發(fā)方面，根據(jù)中微公司公告，公司等離子體刻蝕設備已應用在國內(nèi)外知名廠商55納米到5納米的眾多芯片生產(chǎn)線上。特別是中微的電容性CCP等離子體刻蝕設備，已在國際領(lǐng)先的晶圓生產(chǎn)線核準5納米的若干關(guān)鍵步驟加工。

生產(chǎn)經(jīng)營已步入正軌

中微公司相關(guān)業(yè)務受到疫情一定影響?！爸形⒂?00多家材料和零部件供應廠商，管理產(chǎn)業(yè)鏈的確是一個很有挑戰(zhàn)的任務。疫情期間，公司一直緊密跟蹤供應廠商的供貨情況，有問題及時解決，保證材料按時供應，設備的按時運出?！币緢蛘f，少數(shù)供應商的極個別零部件，由于疫情影響產(chǎn)能調(diào)整，中微公司和這幾家供應廠商及時溝通，要求零部件按時到位。

生產(chǎn)方面，尹志堯介紹，2月下旬生產(chǎn)線已完全恢復，生產(chǎn)經(jīng)營情況已步入正軌。設備按計劃運出方面，除武漢地區(qū)客戶有些推遲，其他地區(qū)都按計劃進行。疫情影響有限，公司今年訂單總體健康向好，但下半年情況要視疫情對整個半導體產(chǎn)業(yè)的影響。