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鍍膜

真空鍍膜設(shè)備篇

星之球科技 來源:成都市江泰真空鍍膜科技2011-07-28 我要評論(0 )   

真空:低于一個大氣壓的氣體狀態(tài)。 1643年,意大利物理學家托里拆利(E.Torricelli)首創(chuàng)著名的大氣壓實驗,獲得真空。 自然真空:氣壓隨海拔高度增加而減小,存在于宇宙...

真空:低于一個大氣壓的氣體狀態(tài)。

1643年,意大利物理學家托里拆利(E.Torricelli)首創(chuàng)著名的大氣壓實驗,獲得真空。

自然真空:氣壓隨海拔高度增加而減小,存在于宇宙空間。

人為真空:用真空泵抽掉容器中的氣體。

n 真空量度單位

1標準大氣壓=760mmHg=760(Torr)

1標準大氣壓=1.013x105 Pa

1Torr=133.3Pa

n 真空區(qū)域的劃分

目前尚無統(tǒng)一規(guī)定,常見的劃分為:

粗真空 105-103pa(760-10Torr)

低真空 103-10-1pa(10-10-3Torr)

高真空 10-1-10-6pa(10-3-10-8Torr)

超高真空 10-6-10-10pa(10-8-10-12Torr)

極高真空 <10-10pa(<10-12Torr)

n 真空技術(shù)的應(yīng)用

電子技術(shù)、航空航天技術(shù)、加速器、表面物理、微電子、材料科學、醫(yī)學、化工、工農(nóng)業(yè)生產(chǎn)、日常生活等各個領(lǐng)域。

  • OLED蒸發(fā)設(shè)備
  • 離子鍍膜設(shè)備
  • 立式ITO鍍膜生產(chǎn)線
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