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太陽能工藝

晶硅太陽能電池激光刻槽設(shè)備

星之球科技 來源: 新浪財經(jīng)2012-11-01 我要評論(0 )   

晶硅太陽能電池激光刻槽設(shè)備 刻線線寬: 12-30m,3m 刻線深度: 2-5m,2m 刻線速度: 可調(diào),最大4s/片 直線度: 20m 工作臺重復(fù)定位精度:10m 額定輸入電壓: 三相380VA...

    
     晶硅太陽能電池激光刻槽設(shè)備
 

 

刻線線寬:          12-30μm,±3μm

刻線深度:          2-5μm,±2μm

刻線速度:          可調(diào),最大4s/片

直線度:            ±20μm

工作臺重復(fù)定位精度:±10μm

額定輸入電壓:      三相380VAC,50Hz/60Hz,帶保護(hù)地線

冷卻方式:          水冷

加工范圍:          125×125mm、156×156mm

 

應(yīng)用領(lǐng)域:

專用于晶硅太陽能電池選擇性擴(kuò)散

  

設(shè)備特征:

六工位全自動工作平臺,加工速度快

操作簡單,維修費用低

軟件自動控制

性價比高

 

樣品展示:

 

 

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